来源：问董秘
投资者提问：
作为芯片制造关键辅助设备，半导体臭氧发生装置的纯度与稳定性，直接关系到芯片清洗、光刻等核心工艺的精准度，可以减少因设备问题导致的良率损耗。请问贵司的半导体臭氧发生装置对于芯片清洗、光刻等核心工艺的精准度提供怎样的帮助与支持？发挥怎样的作用？谢谢。
董秘回答(国林科技SZ300786)：
尊敬的投资者，您好。类似问题已回复，请您参考相关回复和公司公告。感谢您的长期关注，并恳请投资者能妥善运用公共资源，无需就类似问题长期、重复提问。
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